O programa Runway 606 das Escolas Públicas de Chicago oferece matrícula dupla em STEM, orientação, bolsas de estudo de US$ 25 mil e expande os caminhos de segurança cibernética para todas as escolas de ensino médio CPS, com lançamento neste outono. Chicago Public Schools' Runway 606 program offers STEM dual enrollment, mentoring, $25K scholarships, and expands cybersecurity pathways to all CPS high schools, launching this fall.

O programa Runway 606 das Escolas Públicas de Chicago visa acelerar a conclusão dos cursos de mestrado STEM dos alunos, oferecendo matrícula dupla nas City Colleges de Chicago e um caminho para obter um diploma baseado em tecnologia no Illinois Institute of Technology. Chicago Public Schools' Runway 606 program aims to fast-track students' completion of STEM master's degrees by offering dual enrollment with City Colleges of Chicago and a pathway to earn a technology-based degree at Illinois Institute of Technology. Lançado para todas as escolas CPS neste outono, o programa oferece orientação, uma bolsa de estudos de US$ 25 mil e visa matricular até 300 alunos, ao mesmo tempo que expande o caminho de segurança cibernética para todas as escolas secundárias CPS. Launching for all CPS schools this fall, the program provides mentoring, a $25K scholarship, and aims to enroll up to 300 students, while expanding the cybersecurity pathway to all CPS high schools.