O programa Runway 606 das Escolas Públicas de Chicago oferece matrícula dupla em STEM, orientação, bolsas de estudo de US$ 25 mil e expande os caminhos de segurança cibernética para todas as escolas de ensino médio CPS, com lançamento neste outono.
O programa Runway 606 das Escolas Públicas de Chicago visa acelerar a conclusão dos cursos de mestrado STEM dos alunos, oferecendo matrícula dupla nas City Colleges de Chicago e um caminho para obter um diploma baseado em tecnologia no Illinois Institute of Technology. Lançado para todas as escolas CPS neste outono, o programa oferece orientação, uma bolsa de estudos de US$ 25 mil e visa matricular até 300 alunos, ao mesmo tempo que expande o caminho de segurança cibernética para todas as escolas secundárias CPS.
March 20, 2024
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