Hitachi lança novo sistema DCR Etch System 9060 para fabricação precisa de semicondutores 3D. Hitachi launches new DCR Etch System 9060 for precise 3D semiconductor manufacturing.

A Hitachi High-Tech Corporation introduziu a série DCR Etch System 9060, projetada para gravação isotrópica precisa de dispositivos semicondutores 3D avançados em nível atômico. Hitachi High-Tech Corporation has introduced the DCR Etch System 9060 Series, designed for precise isotropic etching of advanced 3D semiconductor devices at the atomic level. Este sistema utiliza a tecnologia de gravação de plasma para resultados de baixa danos e alta precisão, e inclui um mecanismo de resfriamento exclusivo para aumentar a eficiência. This system uses plasma etching technology for low-damage, high-precision results, and includes a unique cooling mechanism to enhance efficiency. O objetivo é ajudar os fabricantes de semicondutores complexos a reduzir custos e melhorar a produtividade. It aims to help manufacturers of complex semiconductors reduce costs and improve productivity.

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