A ULVAC e a SAL fazem parceria para desenvolver a gravação de plasma para fabricação de niobato de lítio de filme fino em larga escala. ULVAC and SAL partner to develop plasma etching for large-scale thin-film lithium niobate manufacturing.

A ULVAC e a Silicon Austria Labs (SAL) se uniram para desenvolver processos de gravação de plasma para fabricação de niobato de lítio de película fina (TFLN) em larga escala. ULVAC and Silicon Austria Labs (SAL) have teamed up to develop plasma etching processes for manufacturing thin-film lithium niobate (TFLN) on a large scale. Este material é crucial para dispositivos ópticos avançados devido à sua alta eficiência e baixa perda. This material is crucial for advanced optical devices due to its high efficiency and low loss. Usando o sistema de gravação de plasma da ULVAC, a parceria visa melhorar a integração e a escalabilidade da TFLN, atendendo à crescente demanda por volumes mais altos de comunicação de dados. Using ULVAC's plasma etching system, the partnership aims to improve TFLN's integration and scalability, addressing the increasing demand for higher data communication volumes.