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A SMIC chinesa testa uma máquina de litografia UV profunda caseira para chips de 7 nm, com o objetivo de reduzir a dependência da tecnologia dos EUA e da Holanda.
A SMIC da China está testando sua primeira máquina de litografia ultravioleta profunda construída internamente, desenvolvida pela startup de Xangai Yuliangsheng, marcando o progresso em direção à auto-suficiência na fabricação de semicondutores.
A máquina tem como objetivo apoiar a produção de 7nm e potencialmente escalar para 5nm, embora as taxas de rendimento permaneçam baixas devido a desafios de alinhamento.
Este esforço, impulsionado pela crescente demanda interna de empresas de IA e impulso do governo para a tecnologia interna, procura reduzir a dependência de equipamentos estrangeiros, particularmente da ASML, em meio às restrições de exportação em curso nos EUA.
China's SMIC tests homegrown deep UV lithography machine for 7nm chips, aiming to cut reliance on U.S. and Dutch tech.