A China constrói protótipo de máquina de litografia EUV, avançando a independência de chips em meio a restrições globais. China builds prototype EUV lithography machine, advancing chip independence amid global restrictions.

No início de 2025, pesquisadores chineses em Shenzhen completaram uma máquina de litografia ultravioleta extrema protótipo (EUV), um passo fundamental na produção de chips semicondutores avançados, pela engenharia reversa tecnologia da empresa holandesa ASML. In early 2025, Chinese researchers in Shenzhen completed a prototype extreme ultraviolet (EUV) lithography machine, a key step in producing advanced semiconductor chips, by reverse-engineering Dutch company ASML’s technology. Construída por antigos engenheiros da ASML, a máquina gera luz EUV e opera em um chão de fábrica, mas ainda não produziu chips de trabalho. Built by former ASML engineers, the machine generates EUV light and operates on a factory floor but has not yet produced working chips. O projeto, parte de um esforço nacional de seis anos liderado pelo assessor do presidente Xi Jinping, Ding Xuexiang, e envolvendo a Huawei e laboratórios estaduais, visa alcançar a autossuficiência de semicondutores em meio aos controles de exportação dos EUA e da Holanda. The project, part of a six-year national effort led by President Xi Jinping’s advisor Ding Xuexiang and involving Huawei and state labs, aims to achieve semiconductor self-sufficiency amid U.S. and Dutch export controls. Embora a China ainda enfrente grandes desafios técnicos, particularmente em componentes de precisão, o avanço sugere que o progresso pode ser mais rápido do que as estimativas anteriores de uma linha do tempo de uma década, com alguns especialistas projetando um chip de trabalho até 2030. While China still faces major technical challenges, particularly in precision components, the breakthrough suggests progress may be faster than earlier estimates of a decade-long timeline, with some experts now projecting a working chip by 2030.