Veeco e imec criaram um método compatível com 300mm para integrar o titanato de bário em fotônica de silício, aumentando o desempenho para data centers e telecomunicações. Veeco and imec created a 300mm-compatible method to integrate barium titanate into silicon photonics, boosting performance for data centers and telecom.

Veeco e imec desenvolveram um processo compatível com 300mm para integrar o titanato de bário em fotônica de silício, avançando o potencial de dispositivos fotônicos escaláveis de alto desempenho usados em data centers e telecomunicações. Veeco and imec have developed a 300mm-compatible process to integrate barium titanate onto silicon photonics, advancing the potential for high-performance, scalable photonic devices used in data centers and telecommunications. O avanço permite a deposição precisa de filmes de titanato de bário, aumentando a modulação óptica e a eficiência do dispositivo. The breakthrough enables precise deposition of barium titanate films, enhancing optical modulation and device efficiency. O processo foi projetado para compatibilidade com a infraestrutura de fabricação de semicondutores existente, abrindo caminho para uma adoção mais ampla em tecnologias ópticas de próxima geração. The process is designed for compatibility with existing semiconductor manufacturing infrastructure, paving the way for wider adoption in next-generation optical technologies.